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陈光辉
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教授 硕士生导师  

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三维还原炉内多晶硅化学气相沉积的数值模拟

关键字:化学气相沉积;;数值模拟;;还原炉;;多晶硅

摘要:建立描述SiHCl3—H2系统中混合气体的动量、热量和质量同时传递,且耦合气体反应、表面反应的模型,研究利用计算流体力学CFD(Computational Fluid Mechanics)软件Fluent6.2结合物质传递和反应模型,数值模拟三维还原炉内物质分布规律、热传递现象和多晶硅的沉积特性。计算结果表明,随气体流量、硅棒表面温度和操作压力的增加,硅沉积速率增长。理论研究结果对优化现有12对棒还原炉工艺参数和设计新型、大直径还原炉具有理论指导意义。

卷号:v.33

期号:03

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