关键字：铜基板;;化学气相沉积;;纳米碳纤维;;疏水性能

摘要：采用化学气相沉积(CVD)方法,以乙炔(C2H2)为碳源,直接于铜基板上生长碳纤维薄膜。铜基板只进行简单的打磨处理。通过扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)对产物的形貌、结构进行了表征,并用接触角测量仪(CA)对制备的碳纤维薄膜进行疏水性测试。结果表明:在铜基板表面制备了一层直径为100～200nm,厚度为40～50μm的碳纤维薄膜。疏水测试结果显示,这种薄膜有较好的疏水性能,且随纳米碳纤维合成温度变化而变化。经多次试验表明,铜片具有良好的循环使用性能,可多次用于制备碳纤维薄膜。

卷号：v.33;No.137

期号：04

是否译文：否