基板法催化生长纳米碳纤维薄膜
发布时间：2021-03-15 点击次数：
关键字：铜溶胶;;硫化铜;;玻璃基体;;化学气相沉积;;纳米碳纤维薄膜
摘要：以乙炔(C2H2)为碳源,铜溶胶和硫化铜为催化剂前躯体,采用化学气相沉积法(CVD)在玻璃基板上生长纳米碳纤维薄膜。通过扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)和X射线衍射仪(XRD)对产物的形貌与结构进行了表征。结果表明:在反应温度为350℃时,制备出了纤维直径为100～200nm,厚度为3～20μm的均匀的纳米碳纤维薄膜;随着反应温度升高或者反应时间的延长,纳米碳纤维薄膜的膜厚增厚。
卷号：v.33;No.134
期号：01
是否译文：否